重生之工业大亨手打全文字_第110章立场

书号:45750 时间:2018/2/28 字数:752

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　　离子注⼊机原理：

　　离子注⼊机由离子源、质量分析器、加速器、四级透镜、扫描系统和靶室组成，可以

据实际需要省去次要部位。离子源是离子注⼊机的主要部位，作用是把需要注⼊的元素气态粒子电离成离子，决定要注⼊离子的种类和束流強度。离子源直流放电或⾼频放电产生的电子作为轰击粒子，当外来电子的能量⾼于原子的电离电位时，通过碰撞使元素发生电离。碰撞后除了原始电子外，还出现正电子和二次电子。正离子进⼊质量分析器选出需要的离子，再经过加速器获得较⾼能量，由四级透镜聚焦后进⼊靶室，进行离子注⼊。

　　⾼能离子注⼊的优势：

　　多样

：原则上任何元素都可以作为注⼊离子；形成的结构可不受热力学参数（扩散、溶解度等）限制；

　　不改变：不改变工件的原有尺寸和耝糙度等；适合于各类精密零件生产的最后一道工序；

　　牢固

：注⼊离子直接和材料表面原子或分子结合，形成改

层，改

层和基底材料没有清晰的界面，结合牢靠，不存在脫落的现象；

　　不受限：注⼊过程在材料温度低于零下、⾼到几百上千度都可以进行；可对那些普通方法不能处理的材料进行表面強化，如塑料、回火温度低的钢材等；

　　应用：

　　离子注⼊机是集成电路制造前工序中的关键设备，离子注⼊是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注⼊与常规热掺杂工艺相比可对注⼊剂量、注⼊角度、注⼊深度、横向扩散等方面进行精确的控制，克服了常规工艺的限制，提⾼了电路的集成度、开启速度、成品率和寿命，降低了成本和功耗。离子注⼊机广泛用于掺杂工艺，可以満⾜浅结、低温和精确控制等要求，已成为集成电路制造工艺中必不可少的关键装备。 UｍuXｓ.CoM

游牧小说网 > 重生小说 > 重生之工业大亨作者:长胜之虎	书号:45750 时间:2018/2/28 字数:752
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离子注⼊机原理：　　离子注⼊机由离子源、质量分析器、加速器、四级透镜、扫描系统和靶室组成，可以据实际需要省去次要部位。离子源是离子注⼊机的主要部位，作用是把需要注⼊的元素气态粒子电离成离子，决定要注⼊离子的种类和束流強度。离子源直流放电或⾼频放电产生的电子作为轰击粒子，当外来电子的能量⾼于原子的电离电位时，通过碰撞使元素发生电离。碰撞后除了原始电子外，还出现正电子和二次电子。正离子进⼊质量分析器选出需要的离子，再经过加速器获得较⾼能量，由四级透镜聚焦后进⼊靶室，进行离子注⼊。　　⾼能离子注⼊的优势：　　多样：原则上任何元素都可以作为注⼊离子；形成的结构可不受热力学参数（扩散、溶解度等）限制；　　不改变：不改变工件的原有尺寸和耝糙度等；适合于各类精密零件生产的最后一道工序；　　牢固：注⼊离子直接和材料表面原子或分子结合，形成改层，改层和基底材料没有清晰的界面，结合牢靠，不存在脫落的现象；　　不受限：注⼊过程在材料温度低于零下、⾼到几百上千度都可以进行；可对那些普通方法不能处理的材料进行表面強化，如塑料、回火温度低的钢材等；　　应用：　　离子注⼊机是集成电路制造前工序中的关键设备，离子注⼊是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注⼊与常规热掺杂工艺相比可对注⼊剂量、注⼊角度、注⼊深度、横向扩散等方面进行精确的控制，克服了常规工艺的限制，提⾼了电路的集成度、开启速度、成品率和寿命，降低了成本和功耗。离子注⼊机广泛用于掺杂工艺，可以満⾜浅结、低温和精确控制等要求，已成为集成电路制造工艺中必不可少的关键装备。 UｍuXｓ.CoM